 |
ความคิดเห็นที่ 24 |
ส่วนเรื่อง ว่าจะพัฒนาให้เล็กลงไปได้อีกแค่ไหนก็ไปตามอ่านเอาใน link ที่ผมแปะไว้ให้ใน คคห #7 ละกันนะครับ ถ้าสงสัยอะไรก็มากลับมาถามในกระทู้นี้ได้ครับ
ผมขอเล่าสถานการณ์ล่าสุดหน่อยละกันนะครับ
ตอนนี้ผู้พัฒนาเทคโนโลยี semiconductor หลักๆ แบ่งเป็นสองฝ่ายครับ คือ Intel และ ผู้ผลิตรายอื่นทั้งหมด ที่ร่วมมือกันแล้วเรียกตัวเองว่า Fishkill alliance ซึ่งประกอบด้วย - IBM Corp. (Armonk, N.Y.), - GlobalFoundries (USA), - Freescale Semiconductor Inc. (Austin, Texas), - Infineon Technologies AG, - Samsung Electronics Co. (Seoul), - STMicroelectronics N.V. (Geneva), - Toshiba Corp. (Tokyo), - NEC Electronics (Tokyo)
สาเหตุที่ผู้ผลิตรายอื่นต้องมาร่วมมือกัน ก็เพื่อลดต้นทุนในการวิจัยและพัฒนากระบวนการผลิตใน node ใหม่ๆ ครับ - ต้นทุนในการพัฒนา node ใหม่ๆ ในขณะนี้ร่วม หลายพันล้านเหรียญสหรัฐฯ
ตอนนี้ Intel ขาย CPU ที่เทคโนโลยี 32nm มาประมาณหนึ่งปีแล้ว แต่ผู้ผลิตรายอื่นยังไม่สามารถผลิตที่เทคโนโลยี 32nm ได้เต็มกำลังนัก - ไม่สามารถผลิต CPU ที่ 32nm ได้ แต่สามารถผลิตหน่วยความจำได้แล้ว
สาเหตุที่ Fishkill Alliance ยังไม่สามารถผลิตที่เทคโนโลยี 32nm ออกมาก็ติดปัญหา Threshold voltage ของ pFET ส่วน Intel นั้นใช้วิธีที่แตกต่างออกไปในการแก้ปัญหานี้ ซึ่งบริษัทอื่นกลับมองว่าวิธีของ Intel นั้นไม่สามารถให้แก้ปัญหาในระยะยาวได้
ปัญหาตรงจุดนี้ เริ่มต้นมาจากที่เราลดขนาดสิ่งต่างๆ ลง 30% มาเรื่อย จนในที่สุด สิ่งที่เล็กที่สุด เริ่มสร้างปัญหาใหญ่ให้เราแล้ว
สิ่งที่เล็กที่สุดในที่นี้กลับไม่ใช่ gate length แต่เป็น gate oxide หรือชั้นฉนวนบางๆที่กั้นระหว่าง ตัว gate และ channel (ดูคำอธิบายเพิ่มเติมจาก http://topicstock.pantip.com/wahkor/topicstock/2008/05/X6643346/X6643346.html#1 )
เมื่อเราย่อขนาดสิ่งต่างๆ ให้เล็กลงมาเรื่อยๆ แล้ว ตัวฉนวนนี้จึงบางมากๆ (1.2nm ในเทดโนโลยี 32nm) ซึ่งมันบางเกินไป - บางจนมันไม่สามารถเป็นฉนวนได้อีก - เมื่อมันไม่เป็นฉนวน จึงเกิดการลัดวงจรทั้วไปหมดทั้ง IC - แต่เราก็ต้องการให้ฉนวน มีความหนาแค่ 1.2nm ถ้ามันหนามากไปกว่านี้ ตัว transistor ก็ไม่สามารถทำงานอย่างที่ต้องการได้
แก้ไขเมื่อ 05 เม.ย. 53 01:32:31
จากคุณ |
:
ped cad
|
เขียนเมื่อ |
:
5 เม.ย. 53 01:31:58
|
|
|
|
 |